Optischer Schichtdickenmeßplatz von Otsuka (REFLECTIVE FILM THICKNESS MONITOR)
	neu: tectra vertreibt Stromdurchführungen von MPF 18.2.2001
	neue Standard BORALECTRIC® Heizer 25.1.2001
	Sputter Coater mit Sputter Magnetron 17.10.2000
	neue 'Atomic Hydrogen Source' 2.9.2000
	Plasma Quelle jetzt auch als Atomstrahlquelle und Hybridquelle 5.6.99
	Effusionszellen auf Basis von Boralectroc Heizern 21.4.99
	filamentlose Sputter Quelle 20.4.99
	Elektronenstrahlverdampfer 18.6.98
	Micro-MBE 1.5.98
	GALAXY Technology - Ionengetter-Pumpen 1.5.98
	Plasma Ion Source 1.3.98
	Mini-Coater 20.11.97
	Liquid Nitrogen Level Controllers 15.11.97
	Combi Power Supply  15.10.97
	CO2 Snow Jet Cleaning System 30.6.97
	neues Material für Ausheiz-Zelte  30.6.97
	RF Power Supply 30.5.97
	new Quartz Microbalance Controllers 30.5.97
	Keramik-Teile: Schrauben, Muttern, Gelenkperlen, Buchsen 30.5.97

tectra vertreibt optische Multilayer Schichtdickenmeßplätze von Otsuka Electronics/Japan. Die Systeme basieren auf Messung der Weißlichinterferenz über die Aufnahme eines Komplettspektums. Weitere Informationen -> Otsuka FE-300

tectra vertreibt Stomdurchführungen von MPF 

tectra hat den Vertrieb von MPF im deutschsprachigen Raum übernommen. MPF ist ein neuer Hersteller von elektrischen Durchführungen wie z.B. für Strom/Spannung, Coaxial, Thermoelement sowie Keramik-Metall Verbindungen.
 

Seit vielen Jahren wird der Markt für Stromdurchführungen von nur zwei Firmen im Oligopol dominiert. Dies wird nun mit MPF um einen weiteren Anbieter ergänzt. MPF wurde u.a. von einem Mitbegründer der ISI (MDC-Group) gegründet, sodaß bereits von Beginn an über 40 Jahre know-how auf dem Gebiet von UHV kompatiblen Durchführungen vorliegt. Stromdurchführungen sind sowohl als Einschweiß- als auch mit Flanschen (CF, KF, baseplate) in Bereichen bis 600A bzw. bis 30kV sowie als Einfach- und Mehrfach-Durchführungen (bis 20x) lieferbar. Leitermaterialien sind Cu, Ni, Mo, Constantan und Edelstahl. Coaxial-Durchführungen sind in den gängigen Typen BNC, SH, MHV und Microdot lieferbar. Thermoelementdurchführungen können von folgenden Typen sein: K, J, C, E, R, S oder T. MPF stellt gerne auch Spezial-Durchführungen nach Kundenwunsch her. Bitte schicken Sie uns Ihre Anfrage. Einen Auszug des Katalogs finden Sie hier.  Den 88-seitiger MPF-Katalog senden wir Ihnen gerne zu info@tectra.de

neue Standard BORALECTRIC^® Heizer

Advanced Ceramics hat aufgrund langjähriger Erfahrungen mit Anfragen nach speziellen, vakuumtauglichen Probenheizern neue Standard-Heizer definiert. Dabei sind häufig gewünschte features nun standard. Dies sind insbesondere Bohrungen für Thermoelement und Probenhalterung.

Die neuen Layouts sind rechteckig. An 2 Ecken einer Diagonale befinden sind die Kontakte und auf der anderen Diagonale die Bohrungen. Die Thermoelementbohrung ist an einer kurzen Seite vorgesehen.

Neben den Standard-Heizern kann Advanced Ceramics nach wie vor kundenspezifische BORALECTRIC^® Heizer liefern.

Weitere Informationen --> BORALECTRIC^® Heizer

neuer Sputter-Coater

tectra erweitert seine erfolgreiche Serie von kleinen Hochvakuum Beschichtungssystemen. Neben dem seit 1997 lieferbaren Mini-Coater (siehe unten), der vor allem für thermische Beschichtungen und/oder Elektronenstrahlverdampfung konzipiert ist, kommt jetzt der 'Sputter-Coater'.

Der Sputter-Coater ist speziell für Magnetron Sputter-Beschichtung ausgelegt, kann aber problemlos auch mit thermischen Verdampfern (Schiffchen oder Tiegel) und dem e^--flux Mini-Elektronenstrahlverdampfer ausgerüstet werden. Er ist somit ein sehr vielseitiges, kompaktes und bedienungsfreundliches System zum Erzeugen von dünnen Schichten.

Die Kammer hat einen Durchmesser von Ø300mm. Die große Schnellöffnungsklappe hat ebenfalls einen Innen-Ø300mm und ermöglicht somit den uneingeschränkten Zugriff auf den vollen Kammer-Durchmesser. Gerade beim Target- bzw. Proben-Wechsel, bei Umbauten oder Nachfüllen der Verdampfer ist dies sehr vorteilhaft.

Die Kammer ist mit mehreren Zusatzports ausgerüstet. Das Kammer-Top ist ein CF-160er Port und kann z.B. einen Probenhalter bzw. -manipulator oder eine Probenheizung aufnehmen. Seitlich befinden sich serienmäßig 4 CF-35er Ports z.B. für Quarz-Mikrowaage, Gas-Einlaßsystem oder Masken-Handling. In den Bodenport werden die Beschichtungsquellen integriert.

Als Pumpsystem ist standardmäßig eine Turbomolekular-Pumpe mit Membran-Vorpumpe vorgesehen. Das Vakuum-Meßsystem ist eine Fullrange Gauge.

Neue ‚Atomic Hydorgen Source‘

In Zusammenarbeit mit Prof. Dr. E. Bertel / Uni Innsbruck wird von tectra eine neue ‚Atomic Hydrogen Source‘ entwickelt. Sie basiert auf thermischer Dissoziation von Wasserstoff in einer durch Elektronenstoß-Heizung erwärmten Wolfram-Kapillare.

Atomarer Wasserstoff kann in der Dünnschichttechnik (MBE, GSMBE) und Oberflächenanalyse angewendet werden für:

• Zerstörungsfreie Reinigung (z.B. GaAs, InP und Si) von Oxyden und Kohlenwasserstoffen 
• Reinigung bei niedrigen Temperaturen
• Verbesserung der Schichteigenschaften und Schichtwachstum

Weitere Informationen --> Atomic Hydrogen Source

Plasma Quelle jetzt auch als Atomstrahlquelle und Hybridquelle (Atom-/Ionenquelle)

Die Mikrowellen ECR Plasma Quelle kann jetzt auch als Atomstrahlquelle geliefert werden. Sie ist im prinzipiellen Aufbau identisch mit der Plasma Ionenquelle hat allerdings keine Extraktionsgitter sondern nur eine Bornitrid-Apertur am Quellen-Ausgang. Typische Anwendungen von Atomstrahlquellen sind Nitrieren, Wasserstoff und Sauerstoff.

Zum vollständigen Eliminieren von residualen Ionen kann optional eine Ionenfalle vorgesehen werden.

Einzigartig ist die Möglichkeit einer Hybrid-Quelle. Dies ist eine simultane Atom- und Ionenquelle z.B.  für 'ion beam assisted' -Techniken. Vom Prinzip her ist dies eine Atomstrahlquelle mit zusätzlichen Extraktionsgittern. Durch eine geeignete Gitterspannung kann ein definierter Ionenstrahl hinzukonfiguriert werden. 

Weitere Informationen --> Atomstrahlquellen

Effusionszellen auf Basis von Boralectric Heizern

Auf Basis von Boralectric Röhrchen-Heizern wird eine neue Reihe Effusionszellen für die MBE-Technik angeboten. Diese Heizer haben sich im UHV insbesondere für Probenheizungen bestend bewährt und bestehen aus einer Graphitschicht (pG), die zwischen zwei pyrolytischen Bornitridschichten einglassen ist. Diese Heizer sind sehr robust und überleben sogar einen  kurzfristigen Vakuumeinbruch.

Die Effusionszellen werden auf CF-35 Flanschen geliefert und besitzen standard pyrolytische Bornitrid-Tiegel. Verfügbare Volumina sind 10 ccm, 20 ccm und 35 ccm.

Weitere Informationen --> Effusionszellen

Filamentlose Sputter Quelle

Insbesondere zum Reinigen von Proben wurde die neue filamentlose Sputter-Quelle IonEtch entwickelt. Sie wird mit Mikrowellen angeregt. Der Montageflansch ist CF-35.

Weitere Informationen -->  IonEtch

Elektronenstrahlverdampfer e^--flux

Neuer Mini-Elektronenstrahlverdampfer für Draht- und Tiegelverdampfung, auf CF-35. 

Weitere Informationen -->Elektronenstrahlverdampfer

Micro-MBE

Neben der bereits vor 4 Jahren eingeführten Serie der Mini-MBE Systeme wird jetzt auch die ‘Micro MBE’ angeboten. Wie der Name vermuten läßt, wurde das System nochmals kompakter gestaltet. Es ist damit ideal für Anwendungen mit sehr kleinen Proben wie z.B. STM-Plättchen oder Bruchstücke. 

Obwohl die Micro MBE als Desk-Top Instrument ausgelegt ist, verfügt sie über alle wesentlichen Merkmale konventioneller Anlagen. Die Haupt-Charakteristiken sind: bis zu 7 Effusionszellen (10ccm), Probengöße max 1“ (2“ optional), Cryo-Shroud mit autoamtischer Füllstandsregelung, sämtliche Ports wasserkühlbar, Probenmanipulator mit kontinuierlicher Drehung und Heizung (<800°C), 270l/s Ionengetter-Pumpe, Vakuummeßung mit Bayard-Alpert Röhre und Pirani, Proben-Schleuse. 

Die Micro MBE wird zu einem sehr günstigen Preis angeboten. Die Grundversion (eine Effusionszelle) kostet ab DM 199.990,--. Erweiterungen wären z.B. Präparations-Kammer, RHEED, RGA, PC-Steuerung, Ausheiztechnik etc.. 

GALAXY^TM Technology - Ionengetter Pumpen (Duniway)
 

Plasma Source

Neue ECR Plasma Quelle als Atomstrahlquelle, Ionenquelle oder Hybrid Atom/Ionenquelle. Siehe ->Plasma-Source

Mini-Coater
 
 

Die tectra GmbH hat Ihre erfolgreiche Palette der Beschichtungssysteme um das Hochvakuum-Beschichtungssystem 'Mini-Coater' erweitert. Dieses universelle Bell Jar System ermöglicht ein breites Anwendungsspektrum z.B. für thermisches Verdampfen, Sputtern, Elektronenstrahlverdampfung, Plasmaprozesse etc.. Der Mini-Coater ermöglicht ein schnelles Abpumpen und ist ideal geeignet für Forschungsanwendungen und Kleinserien bzw. Prototypfertigung in der Industrie.  Der Mini-Coater besteht aus einer Glasglocke (Durchmesser 300mm) mit Splitterschutz, der Edelstahl-Kammer mit vier CF-35 Ports, Pump- und Vakuummeßport und den elektrischen Durchführungen sowie internem Gestell für die Probenhalterung. Das System besitzt einen Turbo-Molekularpumpstand mit Membranvorpumpe. Die Meßröhre ist eine Balzers Full-Range Meßröhre. Zum Standard-Lieferumfang gehört ein Schwingquarz-Schichtdickenmonitor mit wasserkühlbaren Meßkopf. In der Version für thermisches Verdampfen gehört zur Grundversion ein Schiffchen-Verdampfer mit 1 kW Netzteil. Alle Netzteile und Controller sind im fahrbaren 19"-Gestell integriert.  Sehr attraktiv ist der Preis. In der Grundversion mit einem thermischen Verdampfer kostet der Mini-Coater DM 35.900,-- netto.

Weitere Informationen ->Mini-Coater

Liquid Nitrogen level controllers. Simple and economical automatic filling systems for traps and baffles. Single or dual sensor controls; timed based dewar filling controllers; LN2 transfer lines and valves 

Further information --> LN2 Controller

The Combi Power Supply is a general purpose high-power, high-voltage, DC power supply with a separate AC high current floating output. Applications in which two such power circuits are required include e-beam heating, where the high current circuit is used to heat a filament and the high-voltage circuit to accelerate the thermionic electrons towards a target. 

This rugged straightforward power supply is based on dependable high voltage (HV) transformer and Variac technology. Two separate transformers are used for the two circuits allowing independant control. 

Typical Application: e-beam heating and e-beam evaporation 

Specification:

• High Voltage Output
• Max Voltage: >3.5kV (no load)
• Max current: 250mA
• Max Power: 400W
• Low Voltage Output
• Max voltage: 3V (optional 30V)
• Max current: 10A (optional 16A)
• Max Power: 30W (Standard)

Das "Snow Cleaning" Verfahren nutzt Kohlendioxid zur Reinigung von Oberflächen. Es können µ- bzw. sub-µ-Partikel, sowie kohlenwasserstoffhaltige Verunreinigungen von Oberflächen entfernt werden. Das CO₂ Snow Cleaning ist eine zerstörungs-, verschleiß- und rückstandsfreie Methode. 

Der Reinigungsprozeß basiert auf der Expansion von flüssigem bzw. gasförmigem CO₂ durch eine kleine Düse. Diese Expansion führt zur Bildung von kleinen Trockeneispartikeln und zu einem starken Gasstrom. Beim Auftreffen auf das Substrat entfernt die kinetische Energie des Trockeneises die µ- bzw. sub-µ-Partikel. Ferner werden Kohlenwasserstoffe durch den Lösungsmitteleffekt von CO₂ verflüchtigt. Die hohe Geschwindigkeit des Gases bläst die Verunreinigung weg. 

Typische Anwendungen im Bereich der UHV-Technik sind Probenreinigung, die Reinigung von Vakuumbauteilen, komplexen Strukturen bis hin zu Vakuumrezipienten. 

Das Standard CO₂ Snow Cleaning Set umfaßt ein hand-held on/off Gun, zwei Düsen (FEP, V2A), PTFE armierter flexibler Edelstahlschlauch, DIN-6 und NPT Fittings. Sonderkonfigurationen für spezielle Anwendungen sind erhältlich. Nicht im Lieferumfang enthalten sind Gasflasche, Druckventil und Anzeige. 

SNOW Motion Automated CO2 Snow Cleaning Work Station 

Insbesondere für industrielle Anwendungen ist ein vollautomatisches, 4-Achsen gesteuertes System entwickelt worden. Die Proben- und Düsen-Scan-Einrichtung befindet sich in einem Abzug, der bei Bedarf z.B. mit Stickstoff gefüllt werden kann.

Weitere Informationen --> Snowman

Als neues Standard-Material für die Ausheizzelte der Firma HEMI Heating werden nun Glas-fasermatten mit Silicon-Beschichtung verwendet. Diese sind mechanisch robuster und können bis zu einer maximalen Oberflächentemperatur von 250 °C eingesetzt werden. Das neue Material kann trotz verbesserter Eigenschaften zum gleichen Preis wie die bisher übliche Version mit Aluminium-Beschichtung angeboten werden. Darüber hinaus bietet HEMI Heating weiterhin Zeltmaterialien mit Teflon-Beschichtung an.

Tectra hat die Vertretung der Firma COMDEL, Inc. übernommen. COMDEL ist ein Spezialist für die Herstellung von RF-Netzteilen. Durch das neue, patentierte "Instantantaneous Gain Stable (IGS)" System zeichnen sich die Geräte der CPS Serie durch höchste Stabilität aus, wodurch Plasmainstabilitäten stark reduziert werden. Die CXH Serie bietet Geräte mit bis zu 50 kW Ausgangsleistung. 

Das Lieferprogramm umfaßt weitere Produktbereiche, wie z. B. Real Power Monitor Systeme, Dual Frequency Power Supplies, Manual und Automatic Tuning Networks, High Frequency Amplifiers.
 

RF-Netzteile
Frequenz: 4 bis 80 Mhz
Leistung: 250 bis 5.000 Watt
Optionen: RS-232 Schnittstelle
 

 

The IL150 is a eight layer monitor that can interface to two sensor heads and provides RS232 communication. Resolution is 0.1nm for most materials and the unit is extremely robust making it ideal for sputter applications.

Thickness and rate are calculated from use supplied data on density and acoustic impedance of the film material. Data for up to eight materials is stored in battery-backed memory. Two sensor heads can be attached to the unit and used either as back-up or, alternatively, as the primary sensor for the particular film being deposited. The user can also specify a tooling factor to compensate for difference detector/substrate geometries. 

A particular feature of the IL150 is that it is capable of displaying both positive and negative shifts. This enables the instrument to be used in certain etching operations and also allows the operator to observe and therefore compensate for flash-heating effects. 

The IL820 is a fully featured rate controller meeting the most demanding of today's thin film deposition needs. The instrument has been tested against instruments five times its price and outperforms all of them on rate control - and we can prove it.. The unit features a comprehensive sequencing suite allowing multi-layer deposition with full support for loop operations.

The IL820 is different from any other thin film deposition controller in that the process profile is totally flexible. Both hardware and software handshakes are supported and allow communication between instruments at a high level. The resolution of the instrument sets new standards (better than 0.001nm/s for Copper). 

The unit is programmed using any combination of two letter mnemonics such as 'PR' for power ramp or 'WT' for wait and 9 Materials and 9 Processes can then be repeated in any order within a 99 position sequence. Loops both within the sequence and within the process itself are fully supported. 

In spite of the units clever features the core function is that of a quartz crystal controller and it is the quality of this key capability that has made the unit indispensable at demanding installations around the world. One example are High Tc superconducting films where the IL820 has achieved rate control for Yttrium at 0.02 nm/s with a precision of 0.002 nm/s. Long term drift in control was less than 1%. 
 

Weitere Informationen  --> Quarz Mikrowaagen

Neu im Sortiment sind Keramikteile. Standard-Teile sind Isolierperlen (Gelenkperlen), Buchsen/Gegenbuchsen und Keramik-Schrauben mit Muttern. Die Materialien sind Al₂O₃ bzw. Steatite. Neben Standardteilen liefern wir auch gerne Bauteile nach Ihren Zeichnungen. 

Isolierperle und Buchse/Gegenbuchse

Ceramic Screws and Nuts

• non-magnetic
• outstanding electrical isolation
• excellent under high temperature
• Alumina material used